首先我们来看微波等离子体CVD法的技术原理：mpcvd设备运行原理是在微波能量的作用下，将沉积气体激发成等离子体状态，在由微波产生的电磁场的作用下，腔体内的电子相互碰撞并产生剧烈的振荡，促进了谐振腔内其它的原子、基团及分子之间的相互碰撞，从而有效地提高反应气体的离化程度，直到达到辉光发电，产生更高密度的等离子体的产生。在反应过程中原料气体电离化程度达到10%以上，使得腔体中充满过饱和原子氢和含碳基团，从而有效地提高了沉积速率并且使得金刚石的沉积质量得到改善。

通俗点来讲：MPCVD方法就是先找一个钻石作为基片，放在一个密封设备中，注入一些氢气、氮气、甲烷等，其中的碳元素会附着在钻石上，原本的钻石就会不断长大。吃的是气，长出的是钻石！

其次，我们来看看MPCVD法的优点：MPCVD法制备金刚石具有许多优点，如反应过程中无电极，不会发生HFCVD 法中因金属丝蒸发、游离到沉积的金刚石表面，而产生污染的问题；直流等离子喷射CVD法中，在电弧的产生过程中，点火和熄灭所引起的热冲击非常容易造成金刚石从基片表面脱落；微波激发的等离子体，其电离密度较高等，因此MPCVD法是众多CVD 法中量产高质量金刚石的**。